全球集成电路产能利用率:MOS>=0.7μm

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全球集成电路产能利用率:MOS>=0.7μm 起止时间:2006.06 — 2011.12

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2007-06 82.41
2007-03 77.96
2006-12 81.61
2006-09 84.03
2006-06 86.03
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