2018年全球半导体光刻胶市场现状与发展趋势分析 ArF光刻胶仍将是主流【组图】

半导体光刻胶种类繁多，已应用产品主要可分为四大类

光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。按应用领域，光刻胶可以分为半导体光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶等。

按显示效果，又可将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶显影时未曝光部分溶解于液，形成的图与掩膜版相反。负性光刻胶显影时曝光部分溶解于液，形成的图与掩膜版相同。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率一般只能达到2微米，所以正性光刻胶的应用更为普及。

半导体光刻胶种类繁多，从目前市场上已实际应用的主要半导体光刻胶来看，其按照曝光波长，可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）和ArF（193nm）等4个大类。其中，ArF光刻胶为目前分辨率最高的半导体光刻胶。g线和i线光刻胶为目前市场上使用量最大的光刻胶。

全球半导体光刻胶占总体的24.1%，中国半导体光刻胶仅占总体的1.6%

从全球产品市场来看，LCD光刻胶占比最高，为26.6%。PCB光刻胶占比位居第二，为24.5%。半导体光刻胶占比位居第三，为24.1%。总体看来，半导体光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶三类占比较为均衡。

从中国产品市场来看，PCB光刻胶市场份额占比最多，高达94.4%。LCD光刻胶市场份额占比第二，为2.7%。半导体光刻胶市场份额占比位居第三，仅为1.6%。总体看来，中国市场PCB光刻胶占据大部分市场份额，LCD光刻胶和半导体光刻胶所占份额非常低。

中国半导体光刻胶市场规模占全球比重最大，约为32%

2017年，从全球区域市场来看，中国半导体光刻胶市场规模占全球比重最大，达到32%。其次是美洲地区，其光刻胶市场规模占全球比重为21%。亚太地区紧跟其后，光刻胶市场规模占全球比重为20%。欧洲、日本地区所占比重较低，大约均为9%。

全球半导体光刻胶市场规模将不断扩大，ArF光刻胶仍将是主流

2017年，全球半导体光刻胶销售额达到12.05亿美元的市场规模。从全球半导体光刻胶分类市场份额占比来看，g/i线光刻胶市场份额占比为24.0%，KrF光刻胶市场份额占比为22.0%，ArF/液浸ArF光刻胶市场份额占比为41.0%。

未来，随着功率半导、传感器、LED市场的持续扩大，i线光刻胶市场将保持持续增长。随着精细化需求增加，使用i线光刻胶的应用将被KrF光刻胶替代，KrF光刻胶市场需求将不断增加。ArF光刻胶对应IC制程节点最为先进，在7nm制程的EUV技术成熟之前，ArF光刻胶仍将是主流，随着双/多重曝光技术的使用，光刻胶的使用次数增加，ArF光刻胶的市场需求将加速扩大。

以上数据来源参考前瞻产业研究院发布的《中国信息化学品行业产销需求与投资预测分析报告》。

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