全球集成电路产能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产能:MOS<0.2μm to >=0.12μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产量:MOS<0.2μm to >=0.12μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产能:MOS<0.12μm to >=0.08μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产量:MOS<0.12μm to >=0.08μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm（季度）
2007.12 — 2011.12全球集成电路产能:MOS<0.08μm to >=0.06μm（季度）
2009.09 — 2011.12全球集成电路产量:MOS<0.08μm to >=0.06μm（季度）
2009.09 — 2011.12全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm to >=0.06μm（季度）
2009.09 — 2011.12Worth Due to Saving and Capital（年）
1975 — 2011Due to Saving and Capital（年）
1975 — 2011Worth Due to Saving and Capital（年）
1975 — 2011前瞻产业研究院 咨询·服务