关键阶段！台积电美国亚利桑那工厂已导入首台EUV光刻机【附光刻机市场分析】

图源：摄图网

8月21日消息，台积电将在美国亚利桑那州投资设立2座先进晶圆厂，第1座工厂目前已完成建设，正进行数千台先进及精密设备安装作业，预计2025年量产4纳米制程；第2座晶圆厂建设也在顺利进行中。据台媒报道，台积电亚利桑那州工厂已经导入当地第一台极紫外光（EUV）设备。

EUV光刻机，又称极紫外线光刻机，是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响，其中，小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。

光刻机现状及运输情况

光刻机是技术壁垒极高的产品，当前，全球仅有荷兰的ASML公司有能力生产EUV光刻机。根据该公司的EUV光刻机售价显示，该公司最新的光刻机型号为NXE:3600D，暂无定价，但上一代EUV光刻机的售价已经超过150亿美元。从运输成本上来说，EUV光刻机体积十分庞大，一台顶级的EUV光刻机重大180吨，需要40个集装箱来运输，仅安装调试的时间就需要一年左右。

芯片研发资金需求极大，成本占比最高

芯片设计的研发投入需要巨大的资金投入，根据微电子研究中心IMEC披露的数据，设计一颗28纳米工艺芯片需要约5000万美元，14nm工艺需要1亿美元，10nm工艺需要1.8亿美元，7nm工艺需要近3亿美元，5nm工艺大约需要5.5亿美元，3nm为6亿美元，2nm将近8亿美元。

EUV光刻机主要销往亚太地区、台积电成最大买家

从EUV光刻机的购买商情况来看，2018-2020年，亚太地区销量最高，其中台积电购买的EUV光刻机最多，合计达41台，其次是三星、英特尔。

总的来看，台积电美国亚利桑那工厂的建设已经进入关键阶段。随着光刻机的引入，该工厂的芯片产能将逐渐提速。台积电作为光刻机的最大买家，与ASML携手促进全球芯片科技的发展，双方实现互利共赢。

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更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《中国光刻机行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》

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