全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm

图表时间: -

来源:美国半导体行业协会

全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm 起止时间:2007.12 — 2009.06

季度 单位:%
2009-06 90.20
2009-03 69.90
2008-12 84.39
2008-09 95.23
2008-06 95.22
2008-03 96.73
2007-12 95.37
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